Mode d'emploi DE DIETRICH VALVES BROCHURE

[. . . ] Elles présentent donc les mêmes caractéristiques de résistance à la corrosion, au choc thermique et mécanique que tous les autres appareils de la gamme De Dietrich®, notamment les réacteurs sous lesquels elles sont installées. Toutes les autres parties en contact avec le procédé sont en fluoropolymère (PTFE, PFA). [. . . ] Ceci permet donc d'éviter les contaminations croisées et facilite ainsi la validation du nettoyage. sÉcuritÉ - mAintenAnce Les sièges plats améliorent considérablement la sécurité dans la mesure où le démontage est simplifié lors de campagne de maintenance. prÉsentAtion des diFFÉrentes vAriAntes existAntes montAGe sur tubuLure ÉvAsÉe montAGe sur bLock FLAnGe siège classique + soupape plate innovAtion siège plat + soupape rehaussée nettoyAbiLitÉ 100 % siège plat + soupape plate CVBSP CVBSP coupe CVBPSP CVBPSP coupe CVBPLZ SP CVBPLZ SP coupe Les Accessoires toutes nos vAnnes peuvent être ÉquipÉes de diFFÉrents Accessoires FAciLitAnt Leur mise en oeuvre et Leur utiLisAtion - commAnde pneumAtique à simpLe Action et ressorts de rAppeL - commAnde mAnueLLe de secours - Fins de course - positionneur - vAnne de dÉGAGement rApide pour Les commAndes pneumAtiques - ÉLectrovAnne de commAnde - buse de LAvAGe LA mesure de tempÉrAture Cette mesure est effectuée au travers de la couche d'émail de la soupape, sans joint, sans risque de fuite, à l'aide d'une sonde SVR2 munie de deux capteurs Pt 100 (2x3 fils). Des sondes étalonnées et des sondes de classe A sont disponibles en option. Un accouplement breveté, situé entre la soupape et la commande pneumatique, permet le démontage de la sonde SVR2, sans dépose de la vanne, même durant le process et en totale sécurité. Des kits de remplacement comprenant accouplement et sonde de température sont disponibles pour être installés sur les vannes déjà en service. LA buse de LAvAGe Les vannes CleanValve De Dietrich® peuvent être équipées d'une buse de lavage rétractable. Elle s'installe sur le port latéral du corps de vanne et permet de la nettoyer sans la démonter. La buse se déploie sous l'effet de la pression du produit utilisé pour le nettoyage et se rétracte automatiquement à la fin du cycle. vAnnes en verre Pour les unités réactionnelles bâties autour des réacteurs spéciaux de la série VERI, nous utilisons une vanne en verre DN40 dont le piston en PTFE est directement appliqué sans siège sur la bride émaillée du réacteur. Ces vannes sont produites par De Dietrich Process Systems GmbH. Différentes têtes de raccordement sont disponibles, équipées soit de borniers, soit de transmetteurs de température. Nous attirons votre attention sur le fait qu'en régime transitoire de chauffage ou de refroidissement, il est normal d'observer une différence entre la température mesurée par la vanne et la température mesurée par le brise-lames. Cette différence est liée à la position des points de mesure. En régime stationnaire, elle tend à disparaître. Fonctionnement de LA buse buse rétractée Les ÉLectrodes pour GLAsWAtcH buse déployée support de montAGe/dÉmontAGe Leur principale application est le contrôle continu du revêtement émaillé lorsqu'elles sont connectées à un GlasWatch. La détection est réalisée par deux plots en Iridium placés sur le dessus de la soupape. La soupape rehaussée peut être équipée d'électrodes et d'une prise de température. de dietricH sAs Château de Reichshoffen F 67891 Niederbronn Cedex Tél. +33 3 88 80 26 00 Fax +33 3 88 80 26 95 www. dedietrich. com AFrique du sud De Dietrich South Africa (PTY) Ltd Dunswart Tél. +27 11 918 4131 Fax +27 11 918 4133 info. za@dedietrich. com ÉtAts-unis De Dietrich Process Systems Inc. [. . . ] +34 93 292 0520 Fax +34 93 21 84 709 comercial@dedietrich. es suisse De Dietrich Process Systems AG Liestal Tél. +41 61 925 11 11 Fax +41 61 921 99 40 info@rosenmund. com Le groupe international de dietrich process systems est le premier fournisseur mondial de solutions systèmes, de réacteurs pour les applications corrosives ainsi que d'équipements de séparations solides liquides et de séchage. [. . . ]